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yp街机步入边沿刻蚀领域，新产品支持3D NAND、、、DRAM和先进逻辑制造工艺

2021/8/16 13:03:53

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       作为半导体制造与先进晶圆级封装领域中的卓越装备供应商，yp街机半导体装备今日宣布的边沿湿法刻蚀装备，进一步拓宽了yp街机湿法装备的笼罩面。�！！８眯伦氨甘褂檬ǹ淌匆焱闯г脖哐氐闹种值缃橹�、、、金属和有机质料薄膜，以及颗粒污染物。�！！Ｕ庵忠旌艽笙薅鹊仫蕴吮哐匚廴径院笮ひ辗椒ǖ挠跋�，提高了芯片制造的良率，同时整合反面晶圆洗濯的功效，进一步优化了工艺和产品结构。�！！�

                                                                        yp街机·电子游戏(中国)官方网站
       yp街机半导体装备董事长王晖体现：“在IC制造工艺里，特殊是在3D NAND、、、DRAM和先进逻辑器件工艺中，晶圆边沿剥离、、、杂质颗�：筒辛粑锘岬贾戮г脖哐亓悸式档�，现在这个问题的解决关于优化整体工艺良率变得越来越主要。�！！Ｎ颐强⒌谋哐厥ǹ淌聪村氨缚捎杏媒饩稣庵直哐亓悸式档偷奈侍�，这款新产品也把yp街机在湿法工艺的专业手艺拓展到边沿刻蚀应用领域。�！！Ｓ敫煞ㄏ啾�，该产品不但具备显着的性能优势，并且可以显著镌汰化学品的用量。�！！８档靡惶岬氖�，yp街机自主研发的专利手艺可做到更精准高效的晶圆瞄准，以实现精准边沿刻蚀，从而提高良率及产能。�！！�”

     yp街机的边沿刻蚀产品支持多种器件和工艺，包括3D NAND、、、DRAM和先进逻辑工艺。�！！�

     一直以来，制造商都是使用干法刻蚀工艺来解决边沿薄膜和污染物去除的问题。�！！Ｊǹ淌辞鹩诟煞üひ�，它阻止了爆发电弧和硅损伤的风险，同时还能通过 1-7 毫米可变的晶圆边沿薄膜刻蚀/切割精度、、、优异的匀称性、、、可控的刻蚀选择性和较低的化学品消耗量，来降低总体拥有本钱。�！！�

     yp街机首台用于量产的边沿刻蚀产品将于2021年第三季度交付给一家中国的逻辑器件制造商。�！！�




 
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